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Auto-Masked Surface Texturing of Kerf-Loss Free Silicon Wafers Using Hexafluoroisopropanol in a Capacitively Coupled Plasma Etching System 期刊论文
ECS JOURNAL OF SOLID STATE SCIENCE AND TECHNOLOGY, 2019, 卷号: 8, 期号: 4, 页码: Q76-Q79
作者:  Kim, Suhyun;  Park, Jin-Su;  Kim, Jun-Hyun;  Kim, Chang-Koo;  Kim, Jihyun
收藏  |  浏览/下载：35/0  |  提交时间：2019/11/07